製品: 膜厚
ナノメトリクス210システム - 売り切れ

技術概要
フィルム測定システム
厚さの範囲
* 100-500,000オングストローム
スポットサイズ
5Xを目的とした* 50ym
10Xを目的とした* 25ym
40Xを目的とした* 6.5ym
再現性
* 5A +または - 5%
*フィルムの種類に依存し
*測定時間2.5秒(代表値)
フィルムタイプ
シリコン上の窒化*
酸化物上にポリシリコン*
酸化物上に窒化*
シリコン上の酸化物*
*シリコン上にネガ型レジスト
*酸化物上にネガ型レジスト
*(厚膜)115V 50/60 Hzの















































