Tehniskie Anotācija

Sloksnes photoresist no vafelēm, izmantojot plazmas procesu.

CFM Mehāniskā sūknis (pēc izvēles)
13,56 MHz RF ģenerators 200 vati
Divi Gāzes
120V, 50/60Hz, 15 ampēri
Lietotāja rokasgrāmata