技术概要

薄膜测量系统

厚度范围

* 100-500,000埃

光斑大小

* 5X目的50ym
* 10X目的25ym
* 40X目的6.5ym

重复性

* 5A +或 - 5％
*取决于薄膜型
*测量时间2.5秒（典型）

电影类型

*硅氮化物
*氧化物层上多晶硅
*上氧化物的氮化
*氧化硅
*消极抵制硅
*消极抵制上的氧化
*（厚膜）115V 50/60赫兹