技術概要

三月的CS-1701的反應離子刻蝕（刻蝕）系統提供的高端金屬蝕刻，蝕刻和蝕刻III-V化合物，對各向異性刻蝕oxcides，硝酸鹽和聚酰亞胺的矽化物。

反應堆模塊

天然氣處理模塊

射頻發生器

10“寬x 1.5”高（25.4×3.8厘米）硬鋁陽極氧化

持有4“或6”晶圓，8“功能可選

0-600瓦

自動調整

自動光學端點檢測